フォトテクニカ株式会社
トップへ戻る
製品のご紹介
イメージ

ホーム>会社概要 [Japanese] [English]

会社概要

液晶チューナブルフィルター
  (分光・画像処理)
光学レーザ
ウルトラ ファーストレーザ
光学(ナノ秒)レーザ
オートコリレーター
 (レーザ計測装置T)
レーザパワーメータ・エネルギーメータ
 (レーザ計測装置U)
近赤外ビューア   
 (レーザ計測装置V)
電動可変光ディレイライン他   (レーザ制御装置T)
レーザパワーコントローラ    (レーザ制御装置U)
AO変調器・レーザシャッター (レーザ制御装置U)
半導体レーザ
液晶空間光変調器
フェムト秒パルスシェーパー
分光器・光源
非球面レンズ・
  グラディウムレンズ
  (光学部品・その他T)
O/E変換器・
 オプティカルチョッパー他
 (光学部品・その他U)
レーザ保護メガネ・
遮光保護具
薄膜製品
膜厚モニタ(QCM電極)
光学干渉式膜厚モニタ
薄膜密着強度測定装置
CO2ジェットクリーナー
PDFファイル一覧
展示会のご案内
会社概要
Company Profile[English]
資料請求



製品に関するお問い合わせ
voc@phototechnica.co.jp



Acrobat Reader
PDF FILEを開くには、
Acrobat Readerが必要です



 



会社名: フォトテクニカ株式会社
所在地: 〒336-0017
埼玉県さいたま市南区南浦和1-2-17 南和ビル
URL: http://www.phototechnica.co.jp
E-メール: voc@phototechnica.co.jp
TEL: 048-871-0067
FAX: 048-871-0068
代表取締役:
小原 義夫
資本金: 1950万円
創設: 1986年8月13日
 
会社概要: 当社はレーザ発振器及び光学機器・部品の輸入販売からスタートし、世界の革新的で独創的な電子光学機器の輸入販売と高度な技術サービスの提供を通して発展してまいりました。主要商品としては、レーザ光を調整する各種機能製品(開閉、偏光、変調、変換、安定化等)や計測用製品(光諸元同定、出力・エネルギー計測等)を用意し、光源としては半導体レーザからナノ秒、ピコ秒、フェムト秒レーザまで取扱っております。光分析、画像処理の分野では、液晶チューナブルフィルター、高性能分光器をご提供しています。さらに近年の薄膜技術の発展に対応して、薄膜密着強度テスターや、膜厚モニターを用意しています。今後も、光とナノテクノロジーの分野にしっかりとした軸足を置き、市場の動向に対応して、フロンティア商社としての更なる発展を目指してまいります。
事業内容:

1) レーザ発振器及びその応用装置の開発と販売、メンテナンス
2) エレクトロオプティクス機器、理化学機器、計測機器、光学機器とその部品の開発と販売
3) 上記製品のコンサルティングと輸出入業務

サプライヤー:

APE (Angewandte Physik & Elektronik GmbH)
Applied Surface Technologies
Avantes BV
BEOC (Brockton Electro-Optics Corp.)
Biophotonic Solutions Inc.
Conoptics Inc.
CRI (Cambridge Research & Insutrumentation,Inc.)
CrystaLaser Inc.
EKSPLA
EMO Elektronik GmbH
Gentec EO (Gentec Electro-Optics Inc.)
Inficon Inc.
IntraAction Corp.
Light Conversion Ltd.
LightMachinery Inc.
LightPath Technologies,Inc.
LightVisionTechnologies,Corp.
nm Laser Products Inc.
Onefive GmbH
Quad Group, Inc.
Terahertz Technologies Inc.
V-Gen Electro Optics Ltd.
ソーラボジャパン株式会社
山本光学株式会社

マップ
 
交通: 最寄駅 : JR南浦和駅 徒歩8分
東口改札を出て浦和方面。





     このページのトップへ




 
Copyright 2002-2012 PHOTOTECHNICA Corp. All rights reserved.