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EKSPLA社全製品(産業用&理化学用高繰返し・高エネルギーウルトラファーストレーザ)の取扱い開始

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この度フォトテクニカ株式会社はエクスプラ社製の全製品を取扱うことになりました。これまでも理化学用のナノ秒レーザやフェムト秒・ピコ秒ファイバーレーザを取り扱っておりましたが、今後は産業用及び理化学用の高繰返し・高エネルギーのフェムト秒・ピコ秒・ナノ秒レーザ等を含むEKSPLA社の全製品を取扱うことになりました。

 

注目の新製品"UltraFlux"コンパクト波長可変フェムト秒レーザシステム(OPCPA)をご紹介い致します。

UltraFluxは新しいOPCPA(光パラメトリックチャープパルス増幅器)の技術に基づいて開発された、シンプルで費用効果の高いシステムです。フロントエンドデザイン(パテント)を採用しており、波長可変シード光源として培われたファムト秒ピコ秒ファイバーレーザの技術により、極端パルス幅にてハンズフリー波長チューニングが可能です。シード光源とアンプスペクトラムの同期やフェムト秒とピコ秒出力の同期(オプション)が可能です。

    • 特長

      ●波長チューニングレンジ:700-1010nm

      ●パルスエネルギー:0.3mJ

      ●パルス幅:35-60fs@1kHz

●高調波オプション:350-480nm(SHG), 245-320nm(THG)

●設置スペース:1.2x0.75m

 

UltraFlux-series-Tunable-Wavelength-Femtosecond-Laser-System-600x375

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