世界の革新的で独創的なレーザ・電子光学機器を提供します。
最先端レーザーによる各種材料サンプルのテスト加工に対応します。
機器のメンテナンス・移設、高度な技術サービスを提供します。
薄膜密着強度測定機、受託測定および消耗品も提供します。
イベント情報 ▶ 一覧を見る
| 2019年4月24日～26日 | OPIE'19 レーザーEXPO （パシフィコ横浜展示ホール） | |
| 2019年5月14日～16日 | 日本分光学会2019年次講演会（京都大学 化学研究所） | |
| 2019年5月22日～23日 | LAMP2019レーザ先端材料加工国際会議（広島国際会議場） | |
| 2019年6月5日～6月7日 | 第35回化学反応討論会 （東広島芸術文化ホールくらら） | |
| 2019年6月24日～6月27日 | フォトポリマーコンファレンス（幕張メッセ国際会議場） | |
| 2019年7月7日～11日 | OECC/PSC2019 (福岡国際会議場） | |
| 2019年9月17日～20日 | 第13回分子科学討論会（名古屋大学 東山キャンパス） | |
| 2019年11月29日～12月2日 | Plasma Conference 2019 （中部大学春日井キャンパス） | |
| 2019年12月4日～12月6日 | Photonix レーザ加工技術展2019 (幕張メッセ国際展示場） |
新製品NEWS
◆190nm Laser-ARPES
角度分解光電子分光 (APE社製)
高出力UV 光を発生出来る波長可変ピコ秒OPO と高調波を組合せた狭帯域レーザ光電子分光システム
◆Levante Emerald HP +
HarmoniXX FHG (3+1)
●波長チューニングレンジ：
190～215nm / 6.5eV～5.77eV
●スペクトルバンド幅 ： 0.16meV＠196nm
●パルス幅： 15ps
●高光量子束： >1015 photons/s
◆ 高速・高解像度液晶空間光変調器
SLM-1920x1152H （Meadowlark Optics社製）
LCoS 技術とアナログドライブ技術により 
リップルの無い安定した位相変調が可能
高速 PCle(H) 制御の高速応答型は2D/3D ビームステアリングに最適
●高解像度：1920x1152ピクセル
●高速応答：>714Hz（1.4ms)
●高ピークパワー<15GW/cm 対応
●波長範囲：400nm～1650nm
●高光利用効率：95.7%
-
レーザ発振器
-
レーザ計測・制御
-
レーザ保護メガネ
-
レンズ・光学部品
-
分光器
-
スペクトルイメージング
-
薄膜計測
-
その他取扱製品
NEWS▶ 一覧を見る
古物営業に基づく表示
許可証番号 : 431010037982
申請者名 : フォトテクニカ株式会社
埼玉県公安委員会