OPCPA (Optical Parametric Chirped-Pulse Amplification）システムは、近年開発され現在得られるようになった技術により、理科学用途の応用において一番要求されるfew-cycleのパルス幅と同様に、高ピークパワーと高平均出力を同時に提供出来るシステム。長年培われたLC社のコリニア＆ノンコリニアOPAの開発技術、並びに高度なフェムト秒レーザの技術を基本として開発された最先端のカスタム可能なシステム。

極短光パルスのキャリアエンベロープ位相(CEP)制御・安定化が可能。更なる極端パルス、更なる高ピーク出力・高平均出力等、アプリケーションのニーズに応える為の光源。

特長

●最小の極短パルスや最大のピーク出力・平均出力等が要求されるアプリケーション向けのカスタム光源

●波長帯域：800nm～3μm

●ピーク出力：>5TW

●パルス幅：<6.5fs

●パルス繰返し：100Hz～200kHz

●CEP安定性<250mrad

                                                                                                                                            ◆ORPHEUS-OPCPA　コンパクトFew-cycle CEP制御型 ( PHAROS又はCARBIDE励起タイプ)　　　　                               

特長

●回折限界のパルス幅： <6fs

●最大繰返し周波数：100kHz

●最大平均出力：22W

●最大パルスエネルギー：1.1mJ

●コンパクト型、CEP安定化オプション

◆OPCPA－HR    高繰り返しタイプ 

　　( InnoSlabレーザ又はThin-Diskレ－ザ(Yb:YAG)励起、オプションのシード光源としてORPHEUS-OPCPA ）

特長

●最大繰返し周波数：200kHz

●最大平均出力：　54W

●最大パルスエネルギー：1.6mJ

●パルス繰り返し周波数分割オプション

●CEP安定化オプション

◆OPCPA-HE    高エネルギータイプ     ( ピコ秒Nd:YAGレーザ励起、ORPHEUS-OPCPAシード光源)

特長

●マルチ-TWのピークパワーが1kHzのパルス繰返しにて得られる

●<220mrad CEP安定性と<1%のエネルギー安定性 (一日中連続稼働において)

●パルス幅：<9fs

●非線形パルス洗浄テクニック無しでも高いプレパルスコントラスト