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超高出力対応 液晶空間光変調器 1024x1024 SLM-ULTRA-HIGH POWER

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SLM-1024x1024-ULTRA-High Power

 

 

 1オーダー回折効率

 


   高温 vs 高出力

 


 

CWレーザ≥ 1 kW at 1070 nm    SLM は最大1.4kWまで

 

 

 

 

高出力下での位相変調

 

 

シリコンに液晶をコーティングした(LCOS) 型反射型SLM は純粋な位相アプリケーション用のユニークな設計。またそれと独立して常に新しいレートで直接アナログデータを届けるアナログドライブ技術により、リップルの殆どない安定した位相安定性を得ることが可能。反射型アナログSLM シリーズは反射型LCOS 技術に基づいており、スペクトルチューニングや回折光学素子等に紫外域から近赤外域まで対応。
2022年に高速1kHzで高位相安定型 (1024x1024) SLMが登場し、ハイスピード型(HSP)・ウルトラハイスピード型(UHSP)がこれまでに無い超高速・高解像度SLMとして各種のアプリケーションに利用されるようになった。その後レーザの高出力化が進み、高出力や高ピークパワーに対応できる高安定性・高解像度のSLMのニーズが高まり、高出力対応のSLMが登場した。

 

SLM-1024x1024-UHP(ultra–High Power)高出力レーザ対応の高速・高位相安定型 (1024x1024) SLM は、

高平均出力レーザのパワーに対応出来る様に設計されており、動作温度を安定化させるためやレーザ誘起加熱の温度のい対応するためのサーモエレクトリック冷却装置を搭載している。

 

特長

●高出力対応設計 CWレーザ≥ 1 kW at 1070 nm the SLM は最大1.4kWまでの電力で位相変調の全体>1波長範囲を保持

●水冷:TEC(サーモエレクトリック冷却装置)

●TECアクティブヒートデシぺーション【積極的な放熱対策)

動作温度を安定化させる為やレーザ誘起加熱の温度に対抗する為のアクティブサーモエレクトリック冷却(TEC)装置が付いている。  

●SLM-UHP システムは、銅製の水冷ヒートシンクが付いており、外付けのチラーに接続しているのを瞬時に非接続にすることが可能 

サファイアのカバーガラスは、高い熱伝導率によりアクティブ領域に直接熱が伝わることを妨げる。SLMのハウジングはカバーガラスに熱的に接触し水冷ヒートシンクの中に放熱経路を提供する様に設計されている。 

●高温でも対応出来る特別な液晶クリスタルを採用

●ダイエレクトリックミラーバックプレイン

●非反射コーティングカバーガラス

●780-850nm 又は 980-1150nm

●純粋なアナログ位相制御

●リアルタイムでSLMの温度が可能

●SLMの波長と出力を較正出来る較正キット

 

 

 

標準波長

 

コーティングレンジ

 

平均出力

 

 

液晶の応答時間 vs   動作温度

19 ℃

44 ℃

70 ℃

1064 nm

980 – 1150 nm

≥ 1000 W

(at 1070 nm)

≤ 100 ms

≤ 22  ms

≤ 8.1 ms

 

仕様
●波長範囲:488nm~1650nm

●解像度:1024x1024ピクセル

●ピクセルサイズ:17x17μm

●アレイサイズ:17.40x17.40 mm

●ゼロオーダー回折効率:75~87%

●ダイエレクトリックミラー(ARコート付き)回折効率:92~98%
●高光利用効率:97.2%

 

用途

◆体積イメージング(ベッセルビーム)

◆ホログラム、位相差顕微鏡

◆ハイブリッド波面整形(STED顕微鏡・マルチフォトン顕微鏡)
◆HOT (Holographic Optical Tweezing) 、光操作、光ピンセット
◆パルス整形(CARS顕微鏡、レーザマーキング、レーザ加工、レーザ通信)

 

 

 

 

 

 

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