世界の革新的で独創的なレーザ・電子光学機器を提供します。
最先端レーザによる各種材料サンプルのテスト加工に対応します。
機器のメンテナンス・移設、高度な技術サービスを提供します。
薄膜密着強度測定機：Stud Pull Testの専用装置です。
イベント情報 ▶ 一覧を見る
| 2025年12月25日 | 2025年度先端レーザー分光部会・生細胞分光部会合同シンポジウム（慶應義塾大学 矢上キャンパス） | |
| 2026年１月８日～９日 | 第39回日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(JSR2026) （仙台国際センター） | |
| 2026年1月13日～15日 | Laser Solution 2026 (レーザー学会学術講演会 第46回年次大会) (大阪南港ATC's棟) | |
| 2026年1月28日～30日 | SURTECH (表面技術要素展)2026ーnano tech 他14展同時開催 （東京ビッグサイト 南ホール） | |
| 2026年3月15日～18日 | 応用物理学会2026年春季大会 (JSAP EXPO) （東京科学大学 大岡山キャンパス） | |
| 2026年3月17日～19日 | 精密工学会2026年春季大会 （埼玉大学） |
新製品NEWS
◆ 空冷LD 励起一体型波長可変OPO システム Q-TUNE（QL 社製） シームレスレーザ＆OPO, 高調波ユニットが高度に集積。
ターンキー操作で紫外から中赤外域までハンズフリー
チューニング可能。LIF ・フラッシュフォトリシス等に最適。 
●5mJ@470nm, 210(SH)-410-2300nm,
ライン線幅<6cm , 10 Hz
●1mJ@470nm, 100Hz
◆幅広い産業⽤途に使⽤可能なピコ・ナノ秒レーザ （Grace Laser 社製） 
●ダイオード励起QCW ピコ秒UVレーザ
GENIUS:150mW/350mW＠355nm
産業⽤⾼出⼒ピコ秒レーザ BLAZER :
10W〜50W＠1064nm, 532/355nm
●⾼エネルギーピコ秒モードロックレーザ
BLAZER-P: 1〜200mJ＠1064nm, ~10kHz
●⾼出⼒産業⽤ダイオード励起ナノ秒レーザ
GRAVER : 35W＠1064nm, 30kHz〜150kHz
◆4K 高解像度CMOS 超高速分光器
AvaSpec-ULS4096CL-EVO (Avantes社製） 5Gbps 通信＆1Gbps 伝送、多メモリー保存、外部トリガー等実現したEVO と4096 CMOSディテクターにより高パフォーマンス更新。 
・最短露光時間： 9μs ・最小波長分解能>0.05nm
・高S/N 値： 335 ： 1 ・高ダイナミックレンジ4000プラズマ計測/ LIBS / ラマン分光用途/産業用プロセスコントロール等に最適
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レーザ発振器
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レーザ計測・制御
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レーザ保護メガネ
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レンズ・光学部品
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分光器
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スペクトルイメージング
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薄膜計測
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その他取扱製品
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