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Light Conversion社は1994年ににVilnius University Laser Research Centerから設立されました。フェムト秒 OPAとYbべ-スのフェムト秒レーザ光源のパイオニアであり、それらの販売やOEM供給でこれまでに500台以上を出荷した実績を持ち、連続波長可変ウルトラファーストレーザのリーディングカンパニーになりました。
レーザの設計と製造設備、最先端の研究開発施設等により、産業用途や理科学用、そして医療用に対してもユニークなソリューションを提供しています。産業界では24/7稼働の何百ものレーザシステムが10年以上経過し、LC社製フェムト秒レーザの信頼性を証明しています。LC社の知恵と経験とより良い物を生み出そうとするプロフェッショナルチームの高い意識により、ハイクオリティと顧客の満足度に焦点を当てて、今後も更に進化していきます。

 

 

 

 

PHAROSシリーズ 高出力フェムト秒・ピコ秒レーザ Light Conversion社

モジュラーデザイン産業グレード フェムト秒レーザ  PHAROS

 

 

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            PHAROS

 

 

   Pulse energy vs                              base repetition rate

 

 

  Typical Pulse duration

 

 

  near field beam profile

 

 

  far field beam profile

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PHAROS_2016_2--

  Harmonics Generators

   Harmonics energy vs

   pulse repetition rate

 

PHAROS I-OPA

 

I-OPA energy conversion

I-OPA Power VS Temperature

 

  BiBurst

 

 

PHAROSは、Yb:KGW結晶をレーザ媒質に採用した高出力フェムト秒レーザ。ミリジュールレベルのパルスエネルギーと高平均出力を組合わせたフェムト秒レーザで、理科学用途の応用にも研究開発・産業用途にも対応できるようにメカニカル的に光学的に設計されるいる。コンパクトで熱的に安定したシールドデザインにより、各種の光学系や機械のワークステーションと高度に統合することができる。PHAROSが最初に発売されてから2021.04で15周年を迎え、更なる進化を目指している。

 

フェムト秒レーザの高出力化と、高いパルス繰返し動作の実現により、高品位、高精度な加工を、より高速に実現。
出力、パルス繰返し周波数、照射タイミングも自由に正確にコントロール可能。フェムト秒パルスにより、最小限の熱影響でデブリの少ないクリーンなアブレーション加工を実現。

 

ORPHEUS(OPA)と組み合わせると、可変波長にて高繰返し、高出力、高ビーム品質のフェムト秒パルスが得られるので、マルチフォトン顕微鏡、微細構造加工等に最適。

ORPHEUSについての詳細はこちらから

1台のPHAROSで複数台のOPA励起も可能。

24/7の産業用途でも豊富な実績があり、信頼性の高い超短パルスレーザなので、産業用グレードのオプション(I-OPA) が追加されている。

 

特長

●中心波長  1030±10nm

●最大平均出力 20W (★PH2-SP-20W-2mJモデル : 20W,>2mJ,<190fs )
●パルス幅 190fs~20ps可変
●パルス繰返し周波数可変  シングルショット~1MHz

●最大パルスエネルギー >2mJ
●高品位なビーム品質 TEM00; M2<1.2 (M2<1.3)
●ワンボックスシールドパッケージ
●パルスピッカー内蔵によりパルスーオンーデマンド操作が可能

●堅牢で産業用グレードのメカニカルデザイン

●高度なサーマル安定化システム
●短いウォームアップタイム
●低ランニングコスト

●レーザヘッドに直付け可能な高調波オプション(自動切替・ 515nm,343nm,257nm,206nm)

 

主な仕様

モデル  PH2-10W  PH2-15W  PH2-20W  PH2-SP-1mJ  PH2-SP-20W-2mJ
平均出力    10W    15W    20W           10W           20W
パルスエネルギー                 >0.4mJ         >1mJ          >2mJ
パルス幅                 < 290fs                   <190fs
パルス幅可変レンジ           290fs ~ 10ps(20ps)            190fs ~ 10ps (20ps)
パルス繰返し                                       single shot ~ 1MHz
中心波長                                       1030nm±10nm

 

                                                                               

PHAROS-HG(高調波ユニット) は (2H, 2H-3H, 2H-4H, 4H-5H) モデルが有り、堅牢な産業用グレードのデザインでレーザヘッドに直付けでき、システムに統合する事が可能。ソフトウェアにより自動で波長切換え出来る。

 

 

                                                                               

PHAROS I-OPA (産業用グレード光パラメトリック増幅器)は、PHAROSレーザヘッドに直付け出来る波長ユニットで非常に広帯域に対応可能。自動チューナブルタイプと固定波長タイプが有り、対象材料の特性に合わせて、吸収のある波長、吸収の無い波長などを選択することが出来、様々な加工手法実現の可能性が拡がる。

●励起出力:40Wまで

●パルス繰返し:2MHzまで

 

                                                                                                                                                                            

BiBurst (burst-in-burst 動作による可変GHz/MHz バーストの可能性)

高エネルギーフェムト秒レーザ PHAROSにフレキシブルなBiBurst機能を追加することにより、新しいハイテクな製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において新たな生産の可能性を拓ける。

材料加工の拡張性:

◆脆い材料の孔加工・切断  ◆深堀加工  ◆材料選別アブレーション ◆透明材料内部加工

 

 

 

 

用途

■マイクロマシニング
■マイクロ・ナノ構造の作製
■時間分解分光
■バイオメディカル
■ブラッググレーティング・ウェーブガイド製作
■マルチフォトン光重合など

 

PHAROSを使用した産業用アプリケーション例は →こちらから                                           

 

PHAROSを使用した理科学用アプリケーション例は →こちらから

 * PHAROSを使用した最新の理科学用アプリケーション →2021.5 LC news (XUUS-5 high Harmonic source)

 

 

 

 

フェムト秒・ピコ秒レーザ用途に最適な光学部品は →こちらから

フェムト秒・ピコ秒レーザ用途に最適なレーザ結晶・非線形結晶は →こちらから

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ワンボックス産業用・理科学用 高出力フェムト秒レーザ   CARBIDE

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 CARBIDE 80W(水冷)

 

 長時間出力安定性 (水冷) 

 

 ビームプロファイル(水冷)

 

     パルス幅

  主なスペクトル

 

 

 

 

 

 

 

Carbide-2017

CARBIDE 6W(空冷) 

   長時間出力安定性(空冷)

ビームプロファイル(空冷)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

    CARBIDE(空冷)+ HG

HG パルスエネルギーと繰返し

 

 

 

    CARBIDE(空冷)+I-OPA

 

 

 I-OPA energy

CARBIDEは、定評のある高性能フェムト秒レーザPHAROSの特長をそのままに、発振器からアンプまで全てを単一の筐体に統合することを実現したユニボディデザインの産業用グレードフェムト秒レーザ。

LDドライバ、制御回路、冷却部等が高度に統合されレーザヘッドに内蔵することで電磁波ノイズ放射を軽減。製造現場の種々な環境にも対応できる堅牢なボディと設計。高効率キャビティ設計でサイズが劇的に小型化。また組み立てが容易で量産に最適化されており、

産業用途に最適なほか、理科学用途にも最適。

コンパクト空冷タイプと、産業用グレード水冷高出力タイプが有る。

 

CARBIDE は、ビーム安定性のあるウルトラファーストパルスを必要とする産業用途において、内蔵のパルスピッカーにより出力やエネルギーをコントロールし、環境に左右されずに安定したビーム品質と出力安定性を得ることが可能。

 

特長
●ワンボックス
●コンパクトなレーザヘッド(632x305x173mm水冷)(631x324x167mm空冷)
●パルス幅が可変
●繰返し周波数も自由に設定
●操作が簡単
●パルスピッカー内蔵

●出力、パルス繰り返し周波数、パルス幅の設定もコンピューターから一瞬で完了

●高調波オプション(515/343/257nm)自動切り替え・本体に直付け
●機器組込みに最適

●水冷タイプは特に産業用グレードの堅牢な機械構造

 

◆主な仕様

モデル   CB3-20W(水冷)       

CB3-40W  (水冷)

CB3-80W(水冷)   CB5(空冷)          

CB5-SP

(空冷) 

最大平均出力       20W       40W      80W  6W 5W    5W
最大パルスエネルギー      0.4mJ      0.4mJ      0.8mJ  100μJ 83μJ    100μJ
パルス繰返し周波数

single-shot~1MHz

single-shot~1MHz single-shot~2MHz         single-shot~1MHz
パルス幅                 <250fs        <290fs <190fs
パルス幅可変レンジ                                <250fs~10ps    290fs~20ps 190fs~20ps
ビーム安定性                                    <20μrad/℃ 

 

 

 

 

用途

■先端加工、高品位・高精度微細加工

■微細構造加工

■非線形光学

■マイクロマシニング

■マイクロ・ナノ構造の作製

■時間分解分光

■バイオメディカル (デバイス製造、生物細胞関連

 

CARBIDEを使用した産業用アプリケーション例は →こちらから                                                 

 

                                                                                                                                           

BiBurst(burst-in-burst 動作による可変GHz/MHz バーストの可能性)

高出力フェムト秒レーザ CARBIDEにフレキシブルで柔軟性の高いBiBurst機能を追加することにより、新しいハイテクな製造産業(家庭電化製品、ICチップ製造、ステント切断、表面機能化、次世代ディスプレイ工場、量子コンピュータ等)において、マイクロマシニングアプリケーション等の新しいソリューションを提供。

材料加工の拡張性:各種金属・セラミック・サファイア・ガラスの穴あけや切断、質量分析用の材料アブレーション、IC チップ製造等の内部加工、多層構造材料加工等各種の高精度な微細加工が実現可能

  BiBurst

 

                                                                                                                                           

CARBIDE-HG(高調波)モジュール(2H, 2H-3H, 2H-4H)をレーザヘッド本体に直付けして使用することが可能。HGモジュールは堅牢な産業用グレードの機器構造でソフトウェアにより出力波長を自動切換え可能。CBM-03-30W 新登場!            

 

 

                                                                                                                                           

I-OPAは産業用グレードの光パラメトリック増幅器で、CARBIDEに直付け可能。産業用の堅牢なデザインとフレキシブルな波長可変が融合して幅広いアプリケーションに対応可能。主として分光分析や顕微分光に使用され、マルチフォトン顕微鏡用に最適。

●最大出力40W、シングルショット~最大繰返し2MHz   

 

 

 

SCI-Mは理科学用途向けのモジュール                                                                     

SCIモジュールを外付けする事で、産業用グレードのCARBIDEの能力を維持したまま、フレキシブルな拡がりが加わり、特に理科学用途にとって魅力的。(5つの出力ポート)

  

CARBIDEORPHEUS(OPA)を組み合わせると、広帯域で可変波長にて高繰り返し・高出力・高ビーム品質のフェムト秒パルスが得られるので、マルチフォトン顕微鏡やマイクロ・ナノ構造の作成・時間分解分光・微細構造加工等の理科学用途に最適。

 

CARBIDEを使用した理科学用アプリケーション例は →こちらから

 
ORPHEUSについての詳細は  →こちらから

 

 

フェムト秒・ピコ秒レーザ用途に最適な光学部品は  →こちらから

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LD直接励起方式Ybフェムト秒レーザ (オシレータのみ)    FLINT

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     FLINT

 FLINTの主なスペクトル

 厳しい環境下での20W 出力安定性

FLINTは、PHAROS シリーズのオシレータのみを自在に使用できるフェムト秒光源として提供。堅牢で産業用グレードのメカニカルデザイン。 第二高調波(515nm)オプションを装着(HERO)でき自動切換え可能。時間分解分光、非線形光学、微細構造加工など幅広く使用可能。

 

特長
●最大平均出力:>20W@76MHz
●超短パルス幅:<40fs (外部分散補正なし)

●パルスエネルギー:>260nJ
●高出力安定性 :<0.5%rms

 

用途
■多光子励起レーザ顕微鏡
■THz発生
■OPCPA

<オプション>
■CEP(Carrier Envelope Phase) 安定化システム
■外部同期

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高調波発生ユニット(第2・第3・第4 高調波)  HIRO(高出力フェムト秒レーザ用)

   HIRO 

 HIRO-output-wavelength-

  出力波長(2H/3H/4H)

 

  長時間出力安定性(4H)

 

 SHBC

HIROは、高出力フェムト秒レーザ PHAROS, CARBIDE, FLINT用 の高調波ユニットで、515nm/343nm/258nm の出力波長を簡単に切り替えたり、3 波長同時出力も可能。

 

特長

● 繰返し>200kHz, 6W に対し、>3W@515nm、 >1.5W@343nm、>0.6W@258nm が得られる。

●  FLINTに使用すると、517nm, >35%(2H), 345nm, >5%(3H), 258nm, >0.1%(4H)で非常に安定した出力が得られる。

 

 

 

 

 

 

 

SHBCは、PHAROS, CARBIDEの第二高調波のスペクトル幅を圧縮するためのもので、高いコンプレッション効果により、第二高調波のスペクトル幅を<10cm-1まで狭めることが出来る。

 

特長

 

● 出力波長:515nm±5nm

● コンプレッション率:>30%

● 出力スペクトル幅:<10cm-1     

● パルス幅:2~4ps

● 励起光源:PHAROS, CARBIDE:40μJ~4mJのパルスエネルギー, 最大40W

● コンパクト型

 

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