光化学討論会2026・光化学協会 (JPA)50周年記念事業    (神戸大学 鶴甲第一キャンパス)

光化学協会 (JPA)50周年記念事業として、光化学討論会とAPC(アジア・オセアニア光化学国際会議) との

合同シンポジウムが9/8(火) に開催される  

 

会期:   2026年9月8日(火)~10日(木)

会場: 神戸大学 鶴甲第一キャンパス

    ブース 出展致します。 

 

出展品  

      ●卓上型過渡吸収分光機  HARPIA-LIGHT

 

 

 

 

最新の高エネルギー・高平均出力フェムト秒レーザをご紹介します

 

 

 

 

PHAROS(LC社)         

 

 

 CARBIDE(LC社) 

 

 

 

 

 

光化学討論会の詳細は こちらから

 

 

 

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第20回分子科学討論会   (くにびきメッセ:島根県立産業交流会館)

会期:   2026年9月15日(火)~18日(金)

会場: くにびきメッセ:島根県立産業交流会館

 

出展品  

 ◆PHAROS/CARBIDE 最新の高エネルギー・高平均出力フェムト秒レーザ  (パネル、動画)

   

              PHAROS                           CARBIDE       

flexible and stable femtosecond lasers (LC社)

 

    ●オートコリレータ                    ●超短パルス生成コンプレッサーモジュール(パネル)

 

    

  pulseCheck NX            MIKS1     

 

 

 

分子科学討論会2026の詳細は こちらから        

 

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ISUILS 2026 (International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science) ドイツ  (スポンサーとして広告参加)

International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science (ISUILS 2026 - The 22nd ISUILS)

にスポンサーとして協賛しています。

International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science (isuils.jp)

 

日時:2026 年9 ⽉27 ⽇~10 ⽉ 2 ⽇ 

場所:ドイツ ガルミッシュ=パルテンキルヒェン

 

ISUILISは、2023ノーベル物理学賞を受賞したテーマ「アト秒科学」を研究されて

いらっしゃる東京⼤学アト秒レーザー科学研究機構が会議を共催されています。

 

その他詳細は、International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science (isuils.jp)

 

 

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Photonix -光・レーザー技術展-2026 (高機能素材Week) (幕張メッセ国際展示場) 

会期:  2026年 9月30日(水)~10月 2日(金)    

時間:  10:00~18:00 ( 2日は17:00終了)

会場:幕張メッセ国際展示場 

  8ホール ブースNo.52-6                                       案内書はこちら

【東京展】来場案内 (material-expo.jp)

Photonix-光・レーザー技術展-2026 は「リサイクルテック・ジャパン」

「FINETECH JAPAN」「乾燥プロセス展」「猛暑テック」と同時開催されます。

 

■弊社からの下記 e-招待券URLをご覧ください。展示会に参加する為には登録が必要です。

 下記から登録が出来ます(登録ページを開くのに少し時間が掛かります)

https://www.material-expo.jp/tokyo/ja-jp/register.html?code=1746375338337995-CMQ

 

9月5日(土)以降の来場事前登録が有料となります。

 

Photonix2026では最先端のレーザおよびレーザ周辺機器をご紹介・展示致します。

加工する材料に合わせて高品位な微細加工が可能なフェムト秒・ピコ秒・ナノ秒

レーザ、ファイバーレーザをご案内し、お客様のニーズに合わせた其々の状況に

適した機器をご紹介致します。またレーザ加工のご相談に応じます。

 

更にレーザパルスの計測や管理を行える最新のオートコリレータや、レーザ加工や

収差補正に役立つハイパワー対応超高速空間光変調器等をご紹介致します。

 

展示品:◆高エネルギーフェムト秒レーザ 
        PHAROS

 

           ◆産業用高出力フェムト秒レーザ
          CARBIDE

 

 

           ◆次世代型リアルタイムフェムト秒・ピコ秒パルス幅測定器
            pulseCheck NX         

 

 

         ◆ダイオード励起小型高繰返しナノ秒レーザ

    NL200             

 

          ◆3μm周辺中赤外ファイバーレーザ         

          

           Femtum-nano2800

 

           ◆ベッセルビームシェーパー

          

 

         ◆マッチ箱サイズ高性能マイクロレーザ

              

           MatchBox series              Ara

 

         ◆超高出力対応液晶空間光変調器

          

    SLM-1024x1024-UHP

 

 

Photonix2026の詳細は 【公式】高機能素材 Week|2026/9/30-10/2 幕張メッセ

 

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few-cycle パルスを生成・超広帯域紫外線(UV)光の発生     (few-cycle 社製)

                         

 

カナダ国のfew-cycle 社はフェムト秒レーザの性能を向上するために開発した、ユニークな技術であるパルスコンプレッショ用中空コアファイバーシステム hollow-core fiber system を提供しています。300wまでの平均出力、100mJまでのエネルギーに対応しています。また極細のファイバーシステム HYYPUS や HYPUS-BLUE は共振分散波、すなわち10μJレベルで400nmから200nm以下までの調整可能な超短帯および超広帯紫外線(UV)光の発生を可能にします。

 

 

Light Conversion社のフェムト秒レーザは、高出力・高エネルギー・ウルトラファーストパルスで理科学用~研究開発・産業用に最適です。CARBIDE、 PHAROS  の極短パルスを圧縮して200fs~5fsの few-cycle パルスを生成する事が可能です。

 

               

CARBIDEにて fewfew-cycle パルスを生成                                      UV-VIS波 発生

 

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超高出力対応 液晶空間光変調器 1024x1024 SLM-ULTRA-HIGH POWER

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SLM-1024x1024-ULTRA-High Power

 

 

 1オーダー回折効率

 


   高温 vs 高出力

 


 

CWレーザ≥ 1 kW at 1070 nm    SLM は最大1.4kWまで

 

 

 

 

高出力下での位相変調

 

 

シリコンに液晶をコーティングした(LCOS) 型反射型SLM は純粋な位相アプリケーション用のユニークな設計。またそれと独立して常に新しいレートで直接アナログデータを届けるアナログドライブ技術により、リップルの殆どない安定した位相安定性を得ることが可能。反射型アナログSLM シリーズは反射型LCOS 技術に基づいており、スペクトルチューニングや回折光学素子等に紫外域から近赤外域まで対応。
2022年に高速1kHzで高位相安定型 (1024x1024) SLMが登場し、ハイスピード型(HSP)・ウルトラハイスピード型(UHSP)がこれまでに無い超高速・高解像度SLMとして各種のアプリケーションに利用されるようになった。その後レーザの高出力化が進み、高出力や高ピークパワーに対応できる高安定性・高解像度のSLMのニーズが高まり、高出力対応のSLMが登場した。

 

SLM-1024x1024-UHP(ultra–High Power)高出力レーザ対応の高速・高位相安定型 (1024x1024) SLM は、

高平均出力レーザのパワーに対応出来る様に設計されており、動作温度を安定化させるためやレーザ誘起加熱の温度のい対応するためのサーモエレクトリック冷却装置を搭載している。

 

特長

●高出力対応設計 CWレーザ≥ 1 kW at 1070 nm the SLM は最大1.4kWまでの電力で位相変調の全体>1波長範囲を保持

●水冷:TEC(サーモエレクトリック冷却装置)

●TECアクティブヒートデシぺーション【積極的な放熱対策)

動作温度を安定化させる為やレーザ誘起加熱の温度に対抗する為のアクティブサーモエレクトリック冷却(TEC)装置が付いている。  

●SLM-UHP システムは、銅製の水冷ヒートシンクが付いており、外付けのチラーに接続しているのを瞬時に非接続にすることが可能 

サファイアのカバーガラスは、高い熱伝導率によりアクティブ領域に直接熱が伝わることを妨げる。SLMのハウジングはカバーガラスに熱的に接触し水冷ヒートシンクの中に放熱経路を提供する様に設計されている。 

●高温でも対応出来る特別な液晶クリスタルを採用

●ダイエレクトリックミラーバックプレイン

●非反射コーティングカバーガラス

●780-850nm 又は 980-1150nm

●純粋なアナログ位相制御

●リアルタイムでSLMの温度が可能

●SLMの波長と出力を較正出来る較正キット

 

 

主な仕様

 

 

標準波長

 

コーティングレンジ

 

平均出力

 

 

液晶の応答時間 vs   動作温度

19 ℃

44 ℃

70 ℃

785 nm

750 –   850 nm

   -

-

-

-

1064 nm

980 – 1150 nm

≥ 1000 W

(at 1070 nm)

≤ 100 ms

≤ 22  ms

≤ 8.1 ms

 

●解像度:1024x1024ピクセル

●ピクセルサイズ:17x17μm

●アレイサイズ:17.40x17.40 mm

●ゼロオーダー回折効率:75~87%

●ダイエレクトリックミラー(ARコート付き)回折効率:92~98%
●高光利用効率:97.2%

 

 

 

 

 

 

 

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Yb:KGW/KYW フェムト秒レーザ 周波数変換用 BBO / LBO クリスタル


    BBO Crystals

 


 

       BBO crystals 波長vs 反射

 

 

 

 

   LBO Crystals

 

 

LOB Crystal 波長vs 反射

 

EKSMA Optics社製、超短パルスレーザ応用向けBeta Barium Borate – BBO Crystals は、非線形光学結晶でユニークな形状と特長を兼ね備えている。

特長

●広帯域透明領域

●広い位相適合範囲

●大きな非線形係数

●高いダメージスレショールド

●広い熱的安定性の帯域幅

●高い光学均質性

 

上記の様な優れた特長を有するBBOクリスタルは、フェムト秒パルスと共にNOPAへ、Nd:YAG and Nd:YLF レーザの高調波用に、フェムト秒Ti:Sapphireレーザの周波数変調に、OPO、E/Oコンバータのポッケルズセル等、各種アプリケーションに利用されている。

そして最近はイットリビウムYb フェムト秒レーザ(@1030nm)の基本波(波長限界のガウシアンビームに限る)の周波数変換に利用され、超短パルス幅に応じてに厚みが提示されラインナップされている。

★BBO Crystals for Yb:KGW/KYW Frequency Conversion

 

◆50 fs: BBO SHG @ 1030 nm: 0.5 mm; BBO THG @ 1030 nm: 0.15 mm; BBO 4HG @ 1030 nm: 0.1 mm

◆100 fs: BBO SHG @ 1030 nm: 1 mm; BBO THG @ 1030 nm: 0.25 mm; BBO 4HG @ 1030 nm: 0.15 mm

◆150 fs: BBO SHG @ 1030 nm: 1.5 mm; BBO THG @ 1030 nm: 0.4 mm; BBO 4HG @ 1030 nm: 0.2 mm

◆200 fs: BBO SHG @ 1030 nm: 2 mm; BBO THG @ 1030 nm: 0.55 mm; BBO 4HG @ 1030 nm: 0.3 mm

 

尚、標準のクリスタルはオープンリングホルダーの中にマウントされており、"H"と表示されている場合マウントされて供給される。

 

EKSMA Optics社製、超短パルスレーザ応用向けLithium Triborate - LBO Crystals は、非線形光学結晶でユニークな形状と特長を兼ね備えている。

特長

●広帯域透明領域

●広帯域タイプ1とタイプ2の非臨界位相整合(NCPM)領域

●小さいウオークオフ角度

●高いダメージスレショールド

●広い受光角度

●高い光学均質性

 

LBOクリスタルは、高ピークパワーのNd系のパルスの周波数変調、Ti:Sapphireレーザの周波数変調、OPOその他、各種の非線形光学アプリケーションに最適。

 

 

近年はイットリビウムYb フェムト秒レーザ(@1030nm)の:波長限界のガウシアンビームに限る)の第二高調波(SHG)の周波数変換に利用され、超短パルス幅に応じてに厚みが提示されラインナップされている。

★LBO Crystals for SHG of Yb:KGW/KYW Frequency Conversion

 

◆SHG@1030 nm LBO crystal thickness 50 fs 0.9 mm 100 fs 1.9 mm 150 fs 2.8 mm 200 fs 3.7 mm

  Note: LBO crystals は、最大35mm 口径までのマウントにて供給可能。

 

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半導体の分析や製造に関わる薄膜計測アプリケーション:AvaThinfilm     (Avantes社製)

Avantes社はファイバーオプティック分光器&システムを開発し続けている先駆者であり、イノベーターであり、世界の分光器リーディングカンパニーです。

これまで進化型の分光器を開発し続けており、紫外~可視域、近赤外~中赤外域用の分光器に新開発のエレクトロニクスボード (AS7010)を採用したEVOシリーズを取り入れ、、超高速USB3.0通信とGigabit Ethernetの高速伝送が実現した次世代型の分光器を開発して来ました。

2023年にはお客様の立場に立って分光器の構成を創り出してきた30年の経験を基に、次世代のフォトニクスに対応出来る様に考慮し、再現性と個々の安定性を高めることに力を注ぎ、あらゆる産業用途に応用できるコンパクトな万能型分光器を開発しました。この次世代型コンパクト万能型分光器 NEXOS™と 次世代型高速・万能型分光器 VARIUS™ の登場により、Avantes社製分光器は非常に安定した計測が出来、高速で高パフォーマンスが得られ、OEM 組込み対応で各種研究用、その他の応用は無限大であらゆる分野で使用出来る信頼性の高い機器として更に進化したものになりました。
最先端のオートメーション技術の工場で生産される為、優れた再現性が得られ個々の品質安定性・信頼性が高く、簡単に各種の機器やシステムに組み込み・統合することが出来ます。特にサイズやフレキシブルさが要求される場合に最適です。

分光器の応用計測には非常に重要な役割が有り、半導体のニーズが非常に高い現在において半導体を支える縁の下の力として分光器が役立っており、薄膜計測アプリケーションを改めてご紹介します。

 

      

 

半導体製造の各段階において、環境計測や分光によるリアルタイム計測は非常に重要な役割を担っています。

薄膜コーティングは半導体をはじめ、マイクロエレクトロニクス、光学部品などに広く利用されている技術で、薄膜のコーティングプロセス中やコーティング後(鍍金を含む)の膜厚計測が必要とされています。

 

Avantes社製 AvaThinfilmは、光の干渉を利用した薄膜の膜厚測定方式で、非接触でリアルタイムの測定が可能です。最新のファイバー入射型分光器、重水素ハロゲン光源、反射プローブ等の構成で薄膜で起こる干渉パターンと、試料の物性値から膜の厚みを計測します。分光器の応用計測の1つで、卓上型のシステムは簡単にセットアップでき、低価格なので気軽に使用できます。

 

 

 

★最新のシステム構成:Thinfim Bundle

◆分光器:AvaSpec-VARIUS-2K (VRS2048CL) 

( Grating UA (200~1100nm), 100μm slit, DCL-UV/VIS-200, OSC-UA )

◆専用ソフト:AvaSoft-Thinfilm  (AvaSoft-All)

◆光源:AvaLight-DHc (PS-12V/1.0A付)

◆ファイバー:FCR-7UVIR200-2-ME 反射プローブ

◆ステージ:ThinFilm stage

 

特長

●非接触でリアルタイムに計測
●10nm~50μm の膜の厚みを計測
●測定分解能:1nm
●レジスト、酸化膜、機能性フィルム等
●分光器としての用途に使用できる

●専用のソフト(AvaSoft-ThinFilm)に一般的なマテリアルやコーティング材料の物性値がデータベース化されており、選択して使用可能

 

 

                   

       AvaSpec-VARIUS                                                          Wafer Inspection ( 反射計測利用)                  

                                                                          高速計測・高速データ転送(190nm~)AvaSpec-VARIUS-4K

 

特長

●コンパクト、プラグアンドプレイデバイス  

●CMOS制御 (2048-2k / 4096-4k) 

●最新の光学ベンチ(VARIUS Bench F=75mm )

●波長分解能 0.05nm~21.3nm 

●迷光:<0.1%
高速計測・データ処理 (USB3.0)5Gbps

●s/n: 375 : 1

●ダイナミックレンジ :> 4500 : 1
高速データ転送0.38 ms/scan, 1.0 ms (ETH)
●感度:365.000 / 261.000
●露光時間: 最小9μs~30s
●計測の柔軟性(slitサイズの変更が簡単)

●機器や産業用システムへシームレスに統合

●波長域:190nm~1100nm                                                  

 

AvaSpec-VARIUS™-OEMは、産業用組込み様にデザイン

電磁シールドを備えた頑丈なステンレス製のハウジングにより

顧客のデバイスやシステムにシームレスにまたスムーズに統合

 

 

 

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低繰返しレーザ用シングルショットオートコリレータ pulseCheck Single

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 pulseCheck Single

 

 

 

 

 


 

進化したソフトウェア

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pulseCheck Singleは ウルトラファースト(超短パルス)レーザの単パルスの性質・特長を得る為の申し分のないツールであり、しかも高繰返しレーザと同様に低繰返しレーザ用の機器としても有効。チタンサファイアレーザをベースとしたものやYbレーザをベースにしたkHzレベルの繰返しのレーザは問題なく使用出来る。特にグレーティングのアライメント中やコンプレッサーの調整中にウルトラファーストレーザの微調整をする場合に不可欠なツールと言える。

 

特長

●GHzまでの単パルスを計測

●費用効果が高い

●調整が不要で簡単にセットアップ可能

●動く部品を使用しない堅牢なデザイン

●パルス間の統計値

●パルス持続時間やビームデータ表示

●直感的なソフトウェア

●USB3.0でデータ転送し、パワーを供給(シングルケーブル)

●plug & play機能によりスムーズに機器に統合

 

pulseCheck Single のソフトウェアは使い易さを一番に考慮してデザインされている。明瞭で近代的なインターフェースによって、数か所の直感的なボタンをクリックをするだけで全てのデバイスパラメータを全部制御することが可能。そしてソフトウェアはワイドレンジのパラメータや統計を提供可能。オートコリレーション軌跡、ビームプロファイル、ビームプロファイルに沿ったパルス幅、ビームポインティング安定性等を追跡しひと目で分かるように表示することが出来る。またデータを保存し以前のデータと比較することも簡単に可能。

 

主な仕様

●パルス幅              20fs-500ps

●計測波長                760nm-1060nm

●レーザ繰返しレート シングルショット~GHz

●シングルパルス計測 30kHz まで

●最大入力パワー    3W (MHz レーザ) 10μJ (kHz レーザ)

 

 


          

 

 

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レーザパワーアッテネータ   LPAシリーズ

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      LPA & Controller

 

 LPA (電動式アッテネータ)

 

 

 

 

 

 

 

 

 LPA-A (高性能電動式

   アッテネータ)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

   LPA-M ( 手動式

  アッテネータ)

 

 

     LPA-OEM

 

  LPA-U

LPAシリーズはレーザパワーアッテネータ(減衰器)で、高いLIDT (レーザ誘起損傷闘値)により安定性と信頼性の高いパフォーマンスが得られ産業用の高出力レーザにも対応出来る堅牢なデザインでどんな熱的影響やストレスも受けない。

電動式と手動式があり、LPAは電動式、LPA-Aは電動式の高性能・高精度タイプ、LPA-Mは手動式。OEMタイプと偏光していない光用も有る。

 

                                                                                 

LPA

特長

●堅牢なデザイン

●ダメージスレショールド <10 J/cm2 (10ns@1064nm)

●大口径:18mm

●高いポインティング安定性

●調整可能なポラライザ角度 ±2 deg

●外付けのコントローラから制御

●分かりやすい直感的なソフトウェア

●波長:1064/1030/532/515/355/343nm 

●レーザパワー精度:± 0.05 % 

●調整時間 <0.2 秒

 

用途

■レーザマシニング

■研究開発

■レーザパワー制御及び減衰

 

 

LPA-A

特長

●高度に統合されたコントローラ

●アブソリュートエンコーダーにより回転の各ポイントで特異な位置情報やデータワードを提供

●高いレーザパワー精度:±0.004 deg (less than ± 0,01 % of laser power)

●分解能 0,002 deg, 7,4 arcsec, 0,035 mrad

●高速調整 less than 0,2 sec (min to max)

●波長:1064/1030/532/515/355/343nm

●ダメージスレショールド <10 J/cm2 (10ns@1064nm)

●調整可能なポラライザ角度 ±2 deg

 

用途

■高精度レーザマシニング

■レーザパワーの安定化

■研究開発

 

 

LPA-M                        

特長

●産業用に対応する堅牢なデザイン

●手動式

●広い波長域:240nm~2µm

●口径:8mm

●費用効果大

●高出力産業用レーザに対応可能

 

                                                                                 

LPA-OEM

特長

●コンパクトで費用効果の高いデザイン

●最適な統合のために取り外し可能なコントローラ

●高速調整 less than 0,2 sec (min to max)

●ダメージスレショールド <10 J/cm2 (10ns@1064nm)

●口径:8mm

●波長:1064/1030/532/515/355/343/266/257nm, 515+1030nm

●調整可能なポラライザ角度

 

LPA-U                         

●偏光していないレーザ用

●200Wまで

●口径:12mm

●波長:1064nm, 1070nm

 

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