小林麻子 – ページ 13 – フォトテクニカ株式会社

励起レーザ一体型波長可変OPO (355励起) NT340シリーズ

　　　　NT-340

　波長vsパルスエネルギー　

パルスエネルギー（SH/DUV)

パルスエネルギー(MIR)

NT340シリーズは、コンパクトなハウジング内にOPOとNd:YAG Q スイッチレーザを高度に集積した一体型の波長可変ナノ秒OPO（波長可変レーザ）。

波長設定もPC制御で紫外～赤外域までハンズフリーオペレーション操作が可能。発振器は非線形結晶を埃や湿気から守る密閉構造になっており、理科学用研究用途に最適。

特長

●励起レーザ一体型ナノ秒OPO ( 355nm励起 )

●チューニングレンジ：192～4400nm
●最大パルスエネルギー：90mJ (VIS), 15mJ (UV), 20mJ (@2700nm, MIR)

●パルス幅： 3～5ns

●パルス繰り返し：10Hz, 20Hz

●線幅：< 5cm^－1(ナローバンドモデル：< 3cm^－1 ）

●ファイバー出力、励起レーザビーム（355nm)と別の専用出力ポートオプション(532nm)

●アライメントミスなくフラッシュランプの交換が簡単に出来る

用途

●レーザ誘起蛍光計測

●フラッシュフォトリシス

●フォトバイオロジー

●リモートセンシング

●時間分解分光

●非線形分光

ナノ秒レーザ用途に最適な光学部品は→こちらから

ナノ秒レーザ用途に最適なレーザ結晶・非線形結晶は→こちらから

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コンパクト産業用フェムト秒グリ－ンファイバーレーザ FemtoLux-Green (EKSPLA社製)

EKSPLA社製のFemtoluxは産業用・加工用に開発された、コンパクトフェムト秒ファイバーレーザですが、光重合、透明材料の加工、シリコン・サファイアのスクライビングやマーキング用には、基本波(1030nm)以外の波長が必要で、しかもレーザビーム品質と同時にパルスエネルギーも重要です。

この度この様な光重合、透明材料の加工に最適な高エネルギー・高ビーム品質のグリーンファイバーレーザ(515nm)が開発されました。コンパクトで堅牢、ターンキー簡単操作とモノリシック・オールインファイバデザインによりメンテナンスフリーを実現し、24時間7日の稼働も可能です。

- 特長
  ●最大パルス出力：1.5W＠515nm
  ●最大パルスエネギー： 1.5μJ
  ●パルス幅：300fs-5ps可変
  ●パルス繰返し：シングルショット～ 5MHz可変

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190nm Laser-ARPES 角度分解光電子分光　(APE社製)

190nm Laser-ARPESは、高出力UV光源を広帯域で波長可変出来るピコ秒OPO (Levante Emerald HP)に、高効率の高調波 (HarmoniXX FHG)を組合わせたレーザ光源ベースの光電子分光システムです。レーザ光源はテーブルトップで何時でも簡単に使用でき、エネルギー分解能が高く、高い光量子束を得られるので、シンクロトン放射光に比べてARPES に便利です。　　　　

Levante Emerald HP は高出力かつ狭帯幅のピコ秒パルスを得る為に最適な光源(OPO)で、産業用高出力グリーンレーザ(532nm)を励起光源として、HarmoniXX FHG によりPCから自動制御で190nm の高出力UV 光を発生できます。

◆Levante Emerald HP ＋ HarmoniXX FHG (3+1)

特長

●波長チューニングレンジ：190～215nm / 6.5eV～5.77eV
●スペクトルバンド幅 (エネルギー分解能)：0.16meV＠196nm
●パルス幅： 15ps
●高光量子束： >10¹⁵Photons/s

＊励起光源：産業用高出力グリーンレーザ(532nm, 20W, 15ps)

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2.8µm 高エネルギーナノ秒ファイバーレーザ　Femtum Nano 2800

Femtum Nano 2800

Femtum社は中赤外域の各種アプリケーション向けのファイバーレーザを創りたいという思いから研究を重ね独自のユニークな技術を開発し、理科学・メディカル・産業用2.8〜>3.4μmの中赤外域で直接発光する初のウルトラファーストファイバーレーザ生みだした。

Femtum Nano 2800 は、2800nm 付近のコンパクトなナノ秒高エネルギーファイバーレーザで、非金属・生体組織の加工や科学的アプリケーションに最適。紫外線レーザと同様の吸収率が得られるので、多層デバイスの加工に於いて隣接層に影響を与えずに特定層を選択的にアブレーション加工することが出来る。

特長

●波長： 2800nm (2710nm～2830nm　オプション）

●最大平均出力：3W　
●パルス幅：30ns～<200ns
●パルス繰り返し：1～100kHz

●パルスエネルギー：10～100µJ

●ビーム品質：M²<1.3

●増幅器オプション

用途
■非金属のレーザ加工
■生体組織アブレーション
■薄膜加工・半導体加工

■ポリマー加工

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ダイオード励起QCW ピコ秒UV/ DUV レーザ　　GENIUS

GENIUS

GENIUSは、早い周波数繰返しが得られる擬似CW(QCW) 動作を採用した355nm / 266nm のピコ秒UV / DUVレーザ。
レーザの長寿命化のためのTHG結晶と加工飽和級ミラーの予防保全調整が行われる。
24/7稼働のためのコンパクトで堅牢な産業用シールドパッケージプラットフォームにより優れた長時間出力安定性とビーム特性を実現している。

特長　
●出力　：4W@355nm, 3W@266nm
●波長　　　　　：355nm, 266nm　
●パルス繰返し　：80MHz～120MHz (オーダー時に設定）　　
●パルス幅　　　：< 15ps

●高ビーム品質　：M² <1.3
●リモート制御のためのRS232インターフェース出力　　　　　

用途

■半導体ウェハー検査
■材料加工
■マイクロステレオリソグラフィー
■マイクロマシニング　

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産業用ダイオード励起高出力ピコ秒レーザ BLAZERシリーズ

　　BLAZER-IR/GR/UV

Beam profile

Beam stability

BLAZER-P

BLAZERシリーズは、パルス繰返しが高く、ピークパワーが高い産業用グレードのDPSS ピコ秒レーザで、ダイオード励起の為、長寿命で長時間の使用にも対応できる。
堅牢で気密封止されたコンパクトな設計により、様々な産業用材料加工に利用可能。

BLAZER-Medium-power

特長　
●波長：1064nm, 高調波オプション（532/355nm)　　

●出力：10～40W@1064nm, 8～25W@532nm, 5～15W@355nm

●最大パルスエネルギー：130μJ@100kHz, 50μJ@800kHz

●パルス繰返し：100kHz～2MHz　　
●パルス幅　　：<10～15ps@1064nm
●優れた集光特性：M² <1.3
●コンパクトで密閉した頑丈なパッケージデザイン

●全て取り外しが可能で密接な繋がりの構造
●バーストモード対応
●プロセスシャッター搭載

用途

■脆い材料や透明材料の切断や孔加工
■マイクロマシニング

■薄膜加工

■パターニング

BLAZER-High-Power 　　　　　　　　　　　　　　　　

特長

●波長：1064nm, 高調波オプション (532/355nm)　

●出力：30～100W@1064nm, 18～50W@532nm, 12～30W@355nm

●最大パルスエネルギー：300μJ@1064nm,100kHz 100μJ@1064nm, 800kHz

180μJ@532nm, 100kHz

120μJ@355nm, 100kHz
●パルス繰返し：100kHz～2MHz　　
●パルス幅　　：<10ps@1064nm
●優れた集光特性：M² <1.3
●コンパクトで密閉した頑丈なパッケージデザイン

●全て取り外しが可能で密接な繋がりの構造
●バーストモード対応
●プロセスシャッター搭載

用途

■PI, FPC, LCP等の材料の切断や孔加工
■異種の材料から複雑な複合構造を選択して除去

■脆い材料や透明材料の切断や孔加工

BLAZER-Pは、ダイオード励起マスターオシレータとランプ励起再生増幅器から構成される高エネルギーピコ秒レーザ。BLAZERシリーズの堅牢で機密で密閉されたDPSSマスターオシレータデザインを継承しており、ダイオード励起再生増幅器とフラッシュランプ励起ブースター増幅器は、200mJの高エネルギーピコ秒パルスを発生することが出来る。

24/7稼働の堅牢な産業用デザインによりレーザの信頼性が向上し、ランニングコストが低減している。理科学用にも最適。

特長

●パルスエネルギー：1～200mJ@1064nm
●波長：1064nm 高調波オプション　532nm, 355nm　
●パルス繰返し：1Hz～10kHz
●パルス幅　　：<30ps
●優れた集光特性：M² <1.5
●24/7稼働の為のコンパクトで堅牢な産業用シールドパッケージデザイン
●長時間の温度、機械的安定性
●リモート制御のためのRS232インターフェース

用途

■非線形光学
■マイクロマシニング
■励起光源
■衛星レーザ測距　

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EKSPLA社全製品（産業用&理化学用高繰返し・高エネルギーウルトラファーストレーザ）の取扱い開始

この度フォトテクニカ株式会社はエクスプラ社製の全製品を取扱うことになりました。これまでも理化学用のナノ秒レーザやフェムト秒・ピコ秒ファイバーレーザを取り扱っておりましたが、今後は産業用及び理化学用の高繰返し・高エネルギーのフェムト秒・ピコ秒・ナノ秒レーザ等を含むEKSPLA社の全製品を取扱うことになりました。

注目の新製品"UltraFlux"コンパクト波長可変フェムト秒レーザシステム(OPCPA)をご紹介い致します。

UltraFluxは新しいOPCPA（光パラメトリックチャープパルス増幅器）の技術に基づいて開発された、シンプルで費用効果の高いシステムです。フロントエンドデザイン（パテント）を採用しており、波長可変シード光源として培われたファムト秒ピコ秒ファイバーレーザの技術により、極端パルス幅にてハンズフリー波長チューニングが可能です。シード光源とアンプスペクトラムの同期やフェムト秒とピコ秒出力の同期（オプション）が可能です。

- 特長
  
  ●波長チューニングレンジ：700-1010nm
  
  ●パルスエネルギー：0.3mJ
  
  ●パルス幅：35-60fs@1kHz

●高調波オプション：350-480nm(SHG), 245-320nm(THG)

●設置スペース：1.2x0.75m

★UltraFlax FF4010 新登場！(2019/2)

●40mJ@840nm, 10Hz, 10-20fs

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レーザ発振器＆周辺機器等の中古機器・装置の買取及び販売業務開始（フォトテクニカ㈱）

弊社フォトテクニカ株式会社は、1.レーザ発振器及びその応用装置、2.エレクトロオプティクス機器、理化学機器、計測機器、光学機器、部品等の主として輸入販売をしておりますが、この度販売した製品を中古機器・装置として買取る業務を開始致しました。同時に中古機器・装置を販売する業務も開始致しました。

規定等につきましてはまだ未定で、今後の需要に応じて決めて行く予定です。ご希望のある方は営業担当者までお問い合わせください。

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スパイラルスキャニング光学モジュール取扱い開始（MicroMach 社製）

この度、⻄安マイクロマックテクノロジー社製の光学モジュールを取扱うことになりました。スパイラルドリリング光学モジュールは、ウルトラファーストレーザによる微細加⼯を⾏う際に⾼精度な微細孔加⼯⽤のテーパー⾓の制御が可能な光学モジュールです。テーパー⾓の制御、⾼アスペクト⽐の孔加⼯が実現します。
またヘリカルドリリングオプティクスは、ヘリカル加⼯を低価格で実現し、順テーパ、逆テーパ、テーパーレス加⼯など、⾼度な加⼯が実現出来るツールです。

⽤途

◆流量制御板加⼯

◆⾼精度メッシュ加⼯

◆タービンブレードフィルム

冷却孔加⼯

◆燃料ノズル⽳加⼯

⽤途

◆順テーパ加⼯

◆逆テーパ加⼯

◆テーパレス加⼯

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3μmダイオード励起コンパクト波長可変ナノ秒OPO　nanoLevante3

nanoLevante 3

nanoLevante3は、全てが統合されたコンパクト型ダイオード励起ナノ秒OPOで、NIRからMIRにおいてTEMooの高ビーム品質のパルスを提供し、シングルショットも可能。
特に3μm周辺と1.65μm周辺域に於いて波長可変出来る貴重なOPOで、KHzの高繰返しにて数十mWクラスの平均出力、μJレベルのパルスエネルギーを供給できる。波長・パルス繰返し・パルスエネルギーを制御ソフトウェアにより簡単に変更できる。

空冷・コンパクトで堅牢なシステム、コンピュータ制御信頼性が高く、各種の応用に利用できる。

特長

●波長チューニングレンジ: 1.6～1.7μm (Signal), カスタムにて1.45～2.0μm

2.8～3.1μm (Idler), カスタムにて2.2～4.0μm　

●空冷コンパクトデザイン、コンピュータ制御

●パルス・オン・デマンド

●外部トリガーポート

●パワーモニター機能と統合アッテネータ内蔵

●パルス幅: <10ns

●パルス繰返し: シングルショット～1kHz

●高ビーム品質: TEMoo

●パルスエネルギー : 110μJ@1kHz (安定性 1.3%RMS)

●コンパクトサイズ: 350(W) x 222(D) x 130(H)mm

用途

■MIR中間赤外域における、レーザ転写バイオプリンティング　

■波長選別マイクロ材料加工

■赤外MALDI（マトリックス支援レーザー脱離イオン化法）による質量分析

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